［提要］　在新一轮科学技术进步和产业环境变革中，我国积极投身于集成电路这一战略性新产业的保护。集成电路布图设计是集成电路产业的核心，更应得到高度关注。分析我国集成电路布图设计立法、行政、司法等领域现状，在吸收借鉴国际经验和立足本国国情基础上，提出完善立法规定、健全登记备案条件、建立布图设计检索库、扩大行政执法惩处力度、增加刑事司法惩处措施等建议，以期促进布图设计技术创新、集成电路产业稳定有序发展。

关键词：集成电路；集成电路布图设计；法律保护

基金项目：西安市社科基金项目：“人工智能创作成果知识产权保护法律问题研究”（编号：19F03）

中图分类号：D923.49 文献标识码：A

收录日期：2022年10月10日

“十四五”期间，国家以打造知识产权强国为目标，集成电路产业作为具有前瞻性、战略性的新兴知识产权行业进入了国家引领性科技攻关发展的新时期。而集成电路布图设计是集成电路产业发展的关键点，只有保证布图设计的良好发展，才能保证集成电路产业的发展壮大。本文以集成电路布图设计的法律保护为视角，针对有关问题展开探讨，提高集成电路领域的自主知识产权创新水平和储备。

一、集成电路布图设计基本理论考察

（一）集成电路布图设计的概念、内涵及外延。“集成电路”一词并非我国汉语独创词汇，英文概念称为“Intergrated Circuit”。发明者是美国学者杰克·基尔比和罗伯特·诺伊思。集成电路在电路中用字母“IC”表示，是一种微型电子器件或部件。可以认为，集成电路是将多个元器件和互连线路综合到半导体基片上实现某种电子功能，一般应用在计算机、通讯设备和其他电子产品上，为现代信息技术的基础和核心构成。“集成电路布图设计”的英文概念为“Layout Design”，通俗地说它是确定用于制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列与连接的布局设计。

集成电路布图设计，不同国家对其叫法有所不同，我国采用了《华盛顿条约》与TRIPS协定中的“集成电路布图设计”的称谓。虽然在定义上具有各自的特色，但也存在共性的特点，布图设计是指在集成电路制品表面显示出，能够可视化的三维配置模式，每一个可视化图像都可被固定或编码。集成电路布图设计保留的是布图设计的全部甚至包括任何带有独创性的组成部分，但对于布图设计的保护，不延及思路、处理程序和过程、方法等方面。2021年1月1日起实施的《民法典》第一百二十三条明确规定，集成电路布图设计是知识产权客体，是人类社会在发展科学、技术、文化等技术形态过程中所创造的精神产品，为特定的知识信息。集成电路更新换代非常快，管理部门审批也较快。我国的集成电路布图设计专有权在国家知识产权局进行了审理，权利人提交后如果审核程序没问题，那么三个月左右会发放相关专利证书。

（二）集成电路布图设计的技术特征

1、工业实用性、功能性。布图技术的重要意义在于集成电路的大规模工业化生产。布图设计后期实物成果中各个元件的实际配置都和它的大小、位置及体积有关，共同进行排列组合，实质上都直接表现该元件的工业实用性。因此，布图设计被大量制造、使用并产生了积极效应，从而具备了工业的实用价值。

2、工艺复杂，投入成本高。布图设备的制造流程包括三个步骤，分别为产品设计、电气电路图和布图方案的转换。第一阶段主要是进行总体设计，由模拟或数字的电路构成整个电路系统。第二、第三阶段主要是以技术为主体阶段，先通过各种模态将逻辑门电路转变成电子回路，然后再利用光刻技术、电子束处理等技术，把电气电路图绘制在硅晶圆中，形成了一种元件及连线的立体分布图形，并由此进行布画设计。由于工艺相当复杂，且必需有高科技的设备支持，因而需要相当水平的智慧与技能来支撑。因此，人员与设施上的大量投入造成了开发成本的快速增长，开发的总投入近一半的经费都被投入至布图设计。

3、易被低成本复制。投入市场后，即使抄袭者没有足够的资金基础，依旧可以在集成电路产业需求不断增加的背景下进行开发，用更为便宜的售价来抢占更多的市场份额。这明显对于布图设计的正规开发厂商与辛勤劳作的技术人员来说非常不公平。

4、更新换代速度快。电子产品超快的更新换代速度，使得集成电路布图设计也需保持同速度的更新换代频率。更新换代的同时还需在短期内收回研究成本及实现盈利，所以布图设计的难度又增加一重。

（三）集成电路布图设计的法律特征。集成电路布图设计作为法律保护的客体，一定具有区别于其他法律客体的特征，由此法律能够限定其保护范围。

1、集成电路布图设计属于劳动智力成果。权利人通过脑力的方式辛勤劳动，而且在其创作的过程中，这种布图设计方案在设计者和制造商都不是作为常规的设计方案。科研人员每一次的改进和创新，都是科研人员以自己的智力劳动而创造出来的独有的精神财富、精神产品。

2、集成电路布图设计具有无形性。集成电路布图设计的实质上是一个三维配置。这些无形的三维配置都是抽象形式，能够通过附于有形载体之上而为人认知。三维配置是思想的表达而不是集成电路的单个布图工程设计，它能够和众多载体对应。尽管是不同的形式，但布图设计自身都是无形的、唯一的。由此实现空间范围的最大化和功能的最大化利用。

3、集成电路布图设计具有可复制性和非随意性。当前的技术水平使得布图设计载体的图像具有可复制性。在布图设计中，电路的实现效果主要取决于图像的形式和大小，其技术水平直接影响布图设计的形式。而物理化学规律和材料科学特点等原因，都可能对布图设计的形式多样化有相应的影响。所以，设计技术人员在设计集成电路时，往往必须按照国际通用的技术准则，选择几个最常见的集成电路设计单元模块。

二、我国集成电路布图设计法律保护现状

“十四五”时期是继续驱动经济高质量快速健康发展的阶段，准确把握集成电路行业蓬勃发展基本态势，找准未来支持产业快速健康发展的着力点，将对带动国内继续突破集成电路行业的“卡颈子”问题、推进国家战略性新兴产业高质量蓬勃发展有着重要意义。集成电路产业在国民经济中占比增多，我国紧跟时代步伐，加强对集成电路布图设计这关键一环的保护。近年来，我国布图设计登记总量出现了较好的上升态势，商业利用率也维持了较高比例，反映了中国集成电路行业的蓬勃发展和中国集成电路知识产权制度的发展。

（一）我国集成电路布图设计立法保护现状。国务院办公厅最早于2001年3月28日颁布了《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）。该条例以政府规章的立法形态对集成电路布图设计明确了界定，是我国目前唯一行之有效的条例。同年10月1日，我国知识产权局又发布了《集成电路布图设计条例施行细则》（以下简称《细则》）和《集成电路布图设计管理贯彻方法》两部部门规章。2019年4月，我国知识产权局又以指引的形式发布《集成电路布图设计审核与运行指引（试用）》。我国目前没有制定专门的集成电路布图设计立法对其加以保障，只是以效力不及法律的行政法规加以保护。存在立法层级不高的问题，无法满足现代集成电路行业的高度发展，对布图设计也无法予以有效保护。

（二）我国集成电路布图设计行政保护现状。我国集成电路布图设计过去只有国家知识产权局有行政执法权，作出的行政裁决既包括认定侵权行为是否成立又包括下令停止相应侵权行为。与此同时，国家知识产权局作出的行政处罚为可以处以没收或者销毁侵权产品或物品。不过，不得对布图设计的申请权或者专有权产生的纠纷进行调解。直到2022年5月1日发布的《最高级人民法院关于第一审知识产权民事、行政案件管辖的若干规定》（以下简称《规定》）开始实施。通过最高人民法院的规定，进一步明晰集成电路布图设计的民事、行政诉讼的管辖机构，以方便管辖机关高效受理该类案件。

（三）我国集成电路布图设计司法保护现状。司法保护对于知识产权权利人来说，是个人权益保护和社会公共利益保护的最后一道屏障。根据国家知识产权局公布的数据，截至2021年，我国集成电路布图设计累积登记备案52，000件，而随着司法实践的积累和行业发展的变化，更需要深入对布图设计的了解，为产业发展奠定基础，并提供法律保障。由于布图设计涉及高端的科技前沿，需要非常强的专业性，所涉及的司法问题困难且复杂，能进入正常司法程序、确立合理判决规则的案例屈指可数，对有关司法实务工作依然没有全面、合理的指导。国家已经明确提出增强对集成电路布图设计保护的力量，加大权利人民事保护权益，进一步完善知识产权维权援助工作机制，以更好地服务于社会公众和创新主体的知识产权保护需求。但在刑事保护方面，并没有相应的刑法对侵犯集成电路布图设计专有权的行为进行处罚，刑事惩处力度没有适应社会发展的需要，助长了侵权人的嚣张气焰。

三、我国集成电路布图设计法律保护面临的困境

当前我国针对集成电路布图设计的法规保护不健全，法规体制与行业发展不配套，审查和管理缺乏一定的标准，导致集成电路布图设计的侵权诉讼立案审查难度大、登记审批程序经常出现问题、没有具体刑事责任规定等困境逐步显现。并且集成电路布图设计工作有着很强的专业性，且存在很多跨学科的专业性问题。一般的法律专业人士对布图设计的认知程度不是很高，在实践中很难进行有效保护。

（一）立法位阶偏低及内容滞后。我国集成电路布图设计目前面临的最大困难就是法律保护制度不够完善。由于对效力不及法律的行政法规加以保护，立法层级偏低，故无法形成有效的保护，权利人维权困难。随着当前信息技术强国战略的迅猛发展，更多的高新型产业都需要集成电路的应用，国家也加大了对集成电路产品的重点保护。本世纪初颁布的《条例》《细则》不能够适应现代社会的发展变化，不能够适应新时代下知识产权保护的要求。

（二）登记备案制度不健全

1、登记备案材料不规范。集成电路布图设计的登记备案材料已出现了三种类别：纸质版、电子版和芯片样本。如果申请人申请文件中纸质版存在图样缺失等情况，不能完全表达布图设计保护的范围，就会使三者间发生争议。若纸质版的纸张老化，出现细节模糊等问题，会影响诉讼纠纷的解决，应当通过规范登记备案材料加以解决。

2、登记备案材料独创性界限不明确。登记备案材料独创性界限不明确，导致认定布图设计专有权侵权存在问题。在登记备案的过程中，权利人并未被要求说明其布图设计是整体上还是局部上存在独创性，亦或是由常规性设计重新排列组合而具有独创性。只要提交的材料和认定手续符合法律的硬性规定，就可以申请登记备案。

3、登记备案机构未建立布图设计检索库。与建立了比较完善的布图设计技术检索库的国家相比，我国尚未建立相应检索库。在登记备案过程中没有司法鉴定意见，对技术事实的分析和确定只能靠原被告的陈述和相应的举证据，不能通过布图设计检索库进一步判断，其客观真实性存在很大缺憾。

（三）行政执法制裁力度有限，行政裁决不能完全维护好企业的利益，只能有限制裁侵权人，企业维权效果不明显。要让知识产权人的创新劳动得到一定的高额社会报酬，从而能够调动知识产权人的创新创造积极性，也要充分发现知识产权人所提供的知识产业的巨大社会价值，从而激发经济社会整体的创新创造，促进经济社会总体上的经济文化发展进步。然而，故意侵权所得到的收益金额，远远高于侵权面临的制裁处罚金额，侵权人乐于接受这样的处罚结果，权利人不能有效维护自身权益。

（四）刑事司法保护及处罚措施缺失。集成电路布图设计作为我国一项独一无二的新型知识产权客体，刑法尚无相关侵犯集成电路布图设计专有权的刑事处罚规定。无论侵权人的侵权行为有多恶劣，社会危害性如何严重，都很难受到刑事处罚，从长远来看，这将使集成电路设计企业的研发创新热情受到负面影响，不利于集成电路产业的良好发展。

四、集成电路布图设计的国际保护比较及启示

（一）集成电路布图设计的国际保护。国家本身十分重视对知识产权的保护，将其看作一项高效益的投资。随着集成电路工业的日益发达，对布图设计的专门立法保护已经成为了全世界的共识。各个国家的经济发展水平和制度要求有所不同，导致对集成电路布图设计的保护也各有特点。国际社会的《华盛顿条约》、TRIPS协定和美、日立法最具特色和效果。目前，在全球经济形势风云变换的背景下，CPTPP作为新兴的国际贸易协定，也有较先进的国际法规值得我国参考和学习。

1、立法层面。1989年由世界知识产权组织批准的《华盛顿条约》是全球集成电路知识产权范畴的首个国际条约，它进行了系统而全面的规定，确立了布图设计专门法保护的基石。1994年颁布的TRIPS协定是当前全球社会有关集成电路著作权保护的唯一有效协议，标志着集成电路布图与设计这个全新的知识产权客体在全球范畴内的全面建立，是知识产权发展史上一个重要的里程碑。1984年，美国颁布了《半导体芯片保护法》（以下简称《保护法》），美国是全球首个在集成电路布图设计领域进行专业立法的国家。在此之后，世界有关发达国家和地方政府纷纷效仿，建立了本国集成电路布图设计的专业法规，对于集成电路布图设计的侵权行为，作出明确的规定，进行严厉的打击。我国于2021年9月16日正式申请加入CPTPP，因此我国有必要在尊重我国具体国情的前提下，以其中的知识产权条款为蓝本，调整并且完善我国相关集成电路布图设计知识产权法律制度。

2、登记备案制度。集成电路布图设计的登记模式主要有三种。在以英国和瑞典为主的发达国家普遍实行自动登记主义。只要被投入商业使用，就无需登记机关办理登记，已然取得相应的法律保护。以日本和德国为主的发达国家实行登记保护主义。在向登记部门登记注册的前提下，集成电路布图设计才可以得到法律保护，而无论布图设计是否投入商业使用。美国的《保护法》就明确规定可以采取登记诉讼主义。虽然集成电路布图设计在商业投入之时就受到法律保护，但是登记机关是否登记为其是否能够进行诉讼的先决条件。

各国政府通常都认为，集成电路布图设计应当具有独创性是其受到司法保护的前提条件。至于对独创性的认定，指出其内容应该是由创作者自己完成，而不存在抄袭别人等情况，并且不能过于平淡普通，应当具备一定的进步性。组合作品每个单独的部分无需具备独创性，但整体作品必须具备独创性。

3、行政执法制裁。国外很多国家对于集成电路布图设计的行政保护主要集中于相关机构对其申请、登记、审查、咨询等方面，对于主动侵犯知识产权及侵犯后的行政执法制裁措施查处较少，纠纷的解决依靠法院的司法程序比较多。

4、刑事司法保护及处罚措施。日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路线路布局法》（以下简称《布局法》），这是日本第一部保护集成电路的专门法律。该法律规定明确提出对于情节严重的侵权者承担相应的刑事责任，以保护集成电路布图设计的知识产权。

（二）集成电路布图设计国际保护对中国的启示。国际贸易的驱动化和发达国家集成电路产业化的竞争加剧，使得集成电路产业受到广泛关注，中国集成电路的发展更是迎来新一轮机遇和挑战并存的局面。从国际竞争的角度看，集成电路产业不仅仅是行业和技术的较量，更是国家科技实力和国际地位的较量。完善我国的布图设计保护制度不能一蹴而就，应当通过理性的分析和清醒的认识，在借鉴国外先进经验的前提下，结合本国国情和需求，创新出专属于我国自身的集成电路布图设计保护法律法规。

1、立法层面。集成电路布图设计是现代微电子科技的核心内容，其重要性不言而喻。通过新型的专门法律制度来保障，不仅推动科技的发展壮大而且促进社会的进步。CPTPP为成员国设立一般义务，各个国家通过CPTPP中的知识产权条款，在平台中进行贸易竞争。我国知识产权立法总体上符合CPTPP关于民事程序和行政程序及救济规则的要求。集成电路产业已成为各个国家博弈的工具，对于集成电路布图设计，我国应建立符合本国国情专门立法，提高立法层次，明确各类侵权行为和惩处措施，保障法律内容适应现代社会和集成电路产业发展的需要。

2、登记备案制度。我国实行登记保护主义，由国家知识产权局专门进行布图设计工作的部门登记备案。而且与世界其他国家相比，我国对布图设计申请书的审核基本上不包括实质内容，只限于形式部分的审核。实质部分的审核技能要求较高，花费时间多，而且由于布图设计更新与换代的速度过快，因此过多看中实质审查将不利于我国的集成电路行业发展。

我国的集成电路布图设计方案必须具有独创性。就独创性的认定而言，虽然我国和各国的认定标准在概念上有一些差异，但对实际内涵的认定基本相同。在判定填报时间是否具备独创性时，应当明确具体的判定客体为布图设计的逻辑结构和三维配置。两者既不是布图设计思想的表达，也非具体实务形态呈现出来的集成电路产品。并且在独创性的前提下，布图设计也具有相当的技术进步价值，促进我国经济社会的发展。通过以上认定，避免布图设计权利人在陈述过程中出现说不清楚、激化原被告双方矛盾的情况出现。

3、行政执法制裁。随着消费电子逐渐向高度自动化、轻便化的方向发展，新型的智能产品也层见叠出，使集成电路产业拥有更加广泛的发展前景。集成电路上下游应用的进一步扩大，促进了需求的持续旺盛。集成电路布图设计有很强的专业性，加大对行政执法人员的专业知识的培养，使得行政裁决既要维护权利人的合法权益，又要保证侵权行为人得到合理的惩处，使之不敢进行侵权行为。不仅发挥行政执法的强制性功能，而且提高知识产权人被侵犯的民事损害赔偿标准，提升行政执法的效率，促进布图设计产业健康发展。

4、刑事司法保护及处罚措施。我国可以学习日本的《布局法》中关于集成电路布图设计侵权的刑事处罚措施，加大惩处力度。对于意图侵犯设计者布图设计专有权的行为人给予震慑，使之惧怕于严厉的刑事惩处措施而不敢进行侵权行为。对于以实际行动侵犯设计者专有权的行为人加大惩处，捍卫法律的尊严与权威。

五、我国集成电路布图设计法律保护完善建议

（一）完善集成电路布图设计立法规定。我国目前并不存在集成电路布图设计的专门立法。《条例》以较低的法律位阶效力限制了其在司法实务中的应用。因此，必须进一步提高布图设计保护原则的立法层次，并建立法律单行法制度或修改现有的立法标准。随着我国集成电路布图设计登记量和商业效率的逐渐提高，所涉及的侵权纠纷量或将继续上升。对《条例》《细则》《办法》中存在的问题进行修订完善，对审判实践中涉及的集成电路布图设计独创性认定及侵权判定标准等具体法律适用问题出台司法解释。提高布图设计保护的立法层次，制定单行法和修改现行立法规则，研究建立健全适应国际知识产权保护与审判规则的特殊程序法律制度，以确定被侵权人申请法庭强制执行的主体资格，提高诉讼进程速度，并有效保障被侵权人的合法权益。

（二）健全登记备案条件并建立布图设计检索库。布图设计登记备案机构明确布图设计申请人提交布图设计的电子版本，避免纸质版老化、图样模糊等问题。保证发生诉讼争议时，更好地维护权利人的利益，便利法院调取布图设计确定的范围，提高争议解决效率。当布图通过纸质图样上显现，应当满足不仅清晰而且全面的要求，以良好的模式展示布图设计全部细节，这时优先采用以纸面图样为准的进行维权；如果纸质图样不清晰，可考虑以样品为准，借助专业机构的力量来进行维权。登记备案的过程中，权利人应明确指出个人的独创性部分。对于整体独创性、局部独创性和常规性设计重新排列组合后具有独创性作出具体指定。

在此基础上，建立全国的布图设计检索库，以此来保证集成电路行业的健康发展。依托于我国和布图设计行业的资源优势，对双方争议的布图设计问题是否具备原创性提出了比较合乎客观事实的判断意见。避免布图设计侵权案件中原、被告布图设计独创性认定不明，激化原、被告双方矛盾，不仅能够提升行政执法的效率，而且可以保障布图设计产业健康发展。

（三）扩大行政执法惩处力度。在数字环境背景下，强调执法信息的透明度，既可保证权利人合法合理地维护自身权益，又能进一步提升行政效率。若行政执法部门认定行为人存在侵权行为，扩大行政执法惩处力度，通过行政制裁手段震慑侵权人，使之不敢进行侵权行为。对于重复施行侵犯他人集成电路布图设计专有权的行为人，可以同时增加违法金额罚款的额度。

（四）增加刑事司法处罚措施。提升对布图设计侵权行为的打击，布图设计侵权行为以最严厉的手段作为最后的保障。学习CPTPP中关于法定赔偿和惩罚性赔偿的具体适用，对于权利人想要实施侵权行为有一定的威慑作用，保护布图设计权利人的合法权益。对于具有商业规模的侵权行为，不仅应健全民事赔偿制度，而且应增加刑事法律保护规定。增加刑法的教育和强制功能，进一步加强损害赔偿力度和刑事惩处措施，由此激发集成电路企业研发者的创作热情，提升集成电路企业技术革新能力，促进集成电路产业健康发展。

综上，被誉为“现代工业之父”的集成电路产业将在“十四五”时期高速增长，对经济的良好建设、社会的稳定发展、国家的宏观安全都具有战略性的意义和全局性的作用。为满足科学技术与经济发展形势的要求，应在国家大力支持的前提下，健全集成电路布图技术立法，提升立法水平，建立单行法并完善现行立法规则。以法制保障原则为基础，进一步加强政府对集成电路布图设计研发过程与实施登记备案过程的监管，扩大行政执法惩处力度以及侵犯者的刑事处罚措施，以保护布图设计权利人的合法权益，维护我国集成电路布图设计的有序开发，进一步改善集成电路产品发展条件，提高集成电路产品开发效率与技术创新能力，推动我国集成电路产业走向新的征程。

（作者单位：西安财经大学法学院）

主要参考文献：

［1］谭承世.集成电路布图设计的知识产权保护［D］.大连：大连海事大学，2014.

［2］郑敏.半导体集成电路布图设计的法律保护［J］.商，2013（14）.

［3］李璐严.国际法视野下的集成电路布图设计知识产权保护［D］.上海：复旦大学，2013.

［4］李先军，刘建丽.中国集成电路产业发展：“十三五”回顾与“十四五”展望［J］.现代经济探讨，2021（03）.

［5］傅启国，曹坤，王梦婷，宋海瑞，周盼.集成电路布图设计的法律保护及其立法完善［J］.中国发明与专利，2021.18（06）.

［6］袁于飞.2020年我国知识产权事业发展量质齐升［N］.光明日报，2021-01-23（001）.

［7］季盼盼.集成电路布图设计侵权判定研究［D］.常州：常州大学，2021.

［8］李铁喜，杨云君.论《集成电路布图设计保护条例》第二十条第三十三条的完善［J］.长春大学学报，2021.31（07）.

［9］马骏.中外集成电路专利制度比较研究［J］.科技与法律，2017（05）.

［10］祝建军.集成电路布图设计独创性判断存在的争议与解决［J］.电子知识产权，2020（03）.

［11］曹志明，王志超.集成电路布图设计专有权保护相关问题研究——国内首例侵权纠纷行政裁决案件引发的思考［J］.知识产权，2018（07）.